细粉加工设备(20-400目)

我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。

MTW系列欧版磨粉机

稀油润滑系统，新型吊挂式笼式选粉机结构设计

LM立式辊磨机

采用新型碾磨装置自动化电控系统

5X系列欧版智能磨粉机

大型规模化环保智能磨粉机优选设备

LM矿渣立式磨

LM矿渣立式磨集破碎、干燥、粉磨、分级输送于一体

立式磨煤机

烘干与制粉二合一可边磨边烘干

雷蒙磨粉机

工业磨粉设备先驱，经济实用

更多了解

超细粉加工设备(400-3250目)

LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。

LUM超细立磨

LUM超细立磨结合现代磨粉理念

MW环辊微粉磨

采用新型碾磨装置自动化电控系统

粗粉加工设备(0-3MM)

兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。

LM砂粉立磨

大型效率与节能双高型砂粉制备产品

去干机

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2022年9月22日故障现象:冻干机运行UT程序泄漏率测试时发现真空数值逐渐上升,10min上升1Pa (10ubar),超出允许值 [10min上升小于等于08Pa (8ubar)],界面出现真空报警。故障分析方法如图2所示。解决措施: (1)检查真空探头表面和通信无异常,更换新的真空计量探头并进行测试,出现 2023年4月28日 3经第三方检测机构依据QB/T 51322017和GB 2155152010对博世XQG100WNC854A50W型全自动滚筒式洗衣干衣机干衣除菌烘程序进行检测，结果显示可有效去除衣物无需预处理也能高效去渍洁净，博世8系洗干一体机AWE

带你揭秘等离子去胶机的工作原理以及应用

2022年8月10日氧等离子去胶是利用氧气在微波发生器的作用下产生氧等离子体，具有活性的氧等离子体与有机聚合物发生氧化反应，是的有机聚合物被氧化成水汽和二氧化碳等排除腔室，从而达到去除光刻胶的目的，这个过程我们有时候也称之为灰化或者扫胶。氧等离子去去石洗麦机主要由进料装置、洗槽、甩干机、传动机构和供水系统组成，基本结构见图39所示。进料装置包括进料管和进料箱，进料管下部做成球形，装于进料箱上，进料箱起缓冲减速和分流作用，并可在洗槽上移动以调节洗程长度；洗槽箱体用钢板焊接而成，洗槽主要是分离石子和洗涤小麦；甩干小麦去石洗麦机的结构与原理小麦清粮去石机海韦力

冻干机常见故障、原因和排除方法冻干设备维修注意事项哔

2022年6月26日二、冻干设备维修注意事项 1、只有具备专业知识的人员才能对冻干设备展开维护或维修。 2、冻干机电气部件具有高电压，因此，在维护和维修冻干设备时，首先应切断电源。 3、冻干设备的故障有多种，在维修之前应先进行检查，确定故障部位再维修。微波等离子去胶机简介：去胶工艺是微加工工艺过程中一个非常重要的工艺环节。在光刻工艺之后，我们往往需要面临显影后的底胶去除或者干法蚀刻工艺后变性的光刻胶的去除工作，这些环节中光刻胶去除的是否干净以及对样片是否有损伤等将直接影响到后续工艺的进行以及器件的性能。去胶机微波等离子去胶机北京汇德信科技有限公司

全球半导体去胶行业现状：屹唐半导体占比313%，全球

2021年12月3日去胶工艺可分为湿法去胶和干法去胶，目前主流工艺是干法去胶。在光刻工艺中，晶圆表面被均匀覆盖光刻胶薄层后在光刻机中进行曝光。在光刻机曝光下改变了化学性质的光刻胶在显影步骤中被清除，光刻图形相应完成至光刻胶层的转移。2023年8月8日半导体制造设备系列 (4)去胶设备半导体制造设备系列 (4)去胶设备去胶是光刻工艺中的最后一步。在刻蚀/离子注入等图形化工艺完成后，晶圆表面剩余光刻胶已完成图形转移和保护层的功能，通过去胶工艺进行完全清除，避免影响后续集成电路芯片制造半导体制造设备系列(4)去胶设备合明科技

集微咨询发布中国半导体去胶设备白皮书

2023年4月9日等离子去胶机是广泛应用于去胶的设备。去胶机通过氧原子和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶。光刻胶的基本成分是碳氢聚合物，氧原子可以很快地和光刻胶反应生成一氧化碳、二氧化碳和水等，这些生成物会被真空系统抽走。干 2024年6月6日 PVATepla微波等离子去胶机 (兼容SU8及PI干法去胶) （PVA TePla IoN Wave 10 Gas Plasma System）主要用途/ Application：用于8寸及以下的晶圆（SOI、SI、玻璃、铜片等其他半导体材料）正性及负性光刻胶去胶。聚酰亚胺光刻胶（PI）去胶。有机物去除。基片表面等离子改 PVATepla微波等离子去胶机(兼容SU8及PI干法去胶) 先进

冻干机真空泵冒烟与真空度下不来原因处理方法百家号

2020年10月23日一、真空泵冒烟故障及解决方法：首先，冻干机的真空泵刚开始抽真空冒烟是正常现象，过几就好了，时间不长（约一左右）；但是真空泵持续冒烟的话，那么就是有故障存在，主要是密封性问题导致。 1、冻干机的冻干室舱门是否存在漏气；解决 2022年8月1日 2、冻干机制冷量不足或无制冷量产生原因：（1）膨胀阀开启过大，此时搁板或水汽凝结器温度没有下降至设定值，而压缩机结霜严重。（2）膨胀阀开启过小，此时温度降不下去，但压缩机温度很高，吸气阀处不结霜，吸气压力与搁板或水汽凝结器所对应的蒸发温度比搁板或水汽凝结器的温度低冻干机冷阱温度一直不稳定，温度降不下来压缩机水蒸汽气阀

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2019年3月16日微波等离子干法去胶机影响因素：频率选择：频率越高，氧越易电离形成等离子体。频率太高，以至电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子碰撞几率反而减少，使电离率降低。一般常用频率为1356MHz及245GHZ。功率影响：对于一发布时间： 2021年11月15日 1本发明一种干鲜辣椒去把脱帽机，属于食品加工领域。背景技术： 2目前，辣椒加工时，需要去除辣椒把，传统的人工操作效率低，且辣椒分泌的气味容易刺激人体，不适合现代农产品批量加工制备的需求，现有的一些机械化的干鲜辣椒去把设备，主要利用切刀进行切除，需要保证辣椒有序的排列干鲜辣椒去把脱帽机的制作方法

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干法去胶机原理3 切割和磨擦：刀片在高速旋转的同时，不断地切割和磨擦物品表面的胶层，使其逐渐破碎并脱落。4 胶屑排出：去除的胶屑会通过底部的排料口排出，最终形成干净的废旧物品。四、干法去胶机的优点1干法去胶机原理百度文库

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本文介绍了晶圆甩干机（SRD）的原理、结构、分类和应用，适合半导体制程相关人员阅读，了解SRD的工作过程和优势。2024年2月25日一个小小的甩干机，解放了我们的双手，给我们生活带来了很多便捷。通过小小的甩干机，我们可以得到许多关于生活、科技和创新的启示。它告诉我们，科技并不是遥不可及的高科技产品，而是渗透在我们日常生活中的点点滴滴，等待着我们去发现和利用。【五三•科学实验】制作简易甩干机电机螺丝组装

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迈安德螺旋挤干机和液压挤干机是专为淀粉加工及其它粮食加工行业研发的挤压脱水设备。迈安德螺旋挤干机和液压挤干机是专为淀粉加工及其它粮食加工行业研发的挤压脱水设备，尤其适用于玉米湿法加工过程中胚芽、 2020年10月14日冻干机压强下不去冻干机的真空系统方面的保养维护真空冷冻干燥机系统故障及排除方法1、电机超负荷运转，泵运转中有异常杂音、噪音、旋转困难① 泵温太高，可能是泵的阀片或内腔刮伤磨损，转子轴心产生位移造成单面磨冻干机压强下不去百度知道

花生去皮机百度百科

这类的干法去皮机，主要就是用来去掉花生最外边的壳，也叫做花生脱壳机，是花生脱壳的一种专用设备。主要适用范围也是非常广泛，适用于花生酱、花生奶、糕点食品以及牛奶花生等产品的前期脱皮，脱皮后花生无整粒,皮米自动分离．具有脱皮、分瓣、去芽、筛选分级四重功能，自动化程序高 2023年4月22日发电机压力太大买来按摩腰带按摩，误打误撞用上了电击模式！，【发电机】太久没骗米导致忘记业务能力，随后回想起以前的骗米方式后悔不已改为撒娇要米，【发电机】你们说的p站和【发电机】现在是，幻想时间！如果发电机会时停会想去干

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干法去胶工艺原理及使用？Principle and application of dry

2019年9月16日蚀刻机腐蚀加工蚀刻网片的工艺流程Process flow of etching mesh by etching machine 微波等离子干法去胶机影响因素：Influencing factors of microwave plasma dry degumming machine: PVD沉积方式的比较Comparison of PVD deposition methods 等离 2014年11月29日复旦大学硕士学位论文干法去胶制程中工艺参数对去胶速率影响的研究姓名：****学位级别：硕士专业：集成电路工程指导教师：**龙；赖正锦光刻胶去除技术在微电子工业中占有非常重要的地位，其成本约占集成电路制造工艺的30％，去胶的好坏直接影响产品的成品率及器件和电路的最终制造 [精品论文] 干法去胶制程中工艺参数对去胶速率影响的研究